공고일 2009년 4월 29일
지정번호 제500호
내용요약
<주요내용>
이 신기술은 오염된 건축물 표면의 외장재(석재, 알루미늄 복합패널, 타일, 법랑, 벽돌)를 SW-1X(산성세척제) 및 SW#2(알칼리중화제)를 이용한 상향식 2단계 기계화 건축물 외장재 표면 세척공법으로서, 상기 건축물 외장재를 하부에서 상부의 순서로 SW-1X(산성세척제)를 저압(2～4kg/㎠)으로 분사하고 SW#2(알칼리중화제)를 고압(100～140kg/㎠)으로 분사하여 오염물질을 분리 제거하고 연수로 세척하며, 기계화 장치로서는 저층(32m미만)에서는 크레인, 고층(32m이상)에서는 케이지 흔들림 방지장치가 장착된 곤돌라를 이용하는 공법이다.
<기술범위>
SW-1X(산성세척제)를 저압(2～4kg/㎠)으로, SW#2(알칼리중화제)를 고압(100～140kg/㎠)으로 하부에서 상부로(상향식 2단계) 분사하는 건축물 외장재 표면 기계화(크레인 또는 곤돌라 이용) 세척공법
보호기간 : 2006년 9월 21일 ～ 2009년 9월 20일 (3년)
기술개발자
가. 성명(법인명) : ㈜하이텍서비스 (대표이사 손영엽)
나. 전화번호 : 02-456-1380
|
|
